奈米壓印組合體及其壓印方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

105127611

專利證號

I 672212

專利獲證名稱

奈米壓印組合體及其壓印方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立成功大學

獲證日期

2019/09/21

技術說明

本發明係有關於一種可控制接觸壓力之奈米壓印方法，其主要係利用一具厚度變化之可撓式模仁，藉由壓印過程中控制可撓式模仁變形量，產生不同的接觸壓力分佈情形，將阻劑膠自基板中央往外圍擠壓流動，達到均勻厚度之阻劑膠塗佈與更佳的壓印結果。其中，本發明中提及一種具厚度變化之可撓式模仁，其主要為一底部具奈米壓印之微結構的模仁本體，且該模仁本體之厚度係自其周緣向中間逐漸增厚，當本發明具厚度變化之可撓式模仁受一力量或位移時，會產生較大的壓縮量，造成該模仁本體底部之微結構與受壓印之物件產生較大的接觸壓力，並透過模仁本體之厚度差異，而於脫模時控制模仁本體的變形量，以改善過曲因拔模角度過大或急遽的壓力釋放造成的缺陷問題。 A method of ultraviolet (UV) nanoimprinting lithography based on soft silicone molds with varying mold thickness is provided. Due to the deformable and flexible characteristics of the soft mold, it is possible to achieve a conformable contact with substrates as well as a controllable contact pressure distribution during imprinting.

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

企業關係與技轉中心

連絡電話

06-2360524

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