具有次鏡調焦機構之光學系統

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

109108229

專利證號

I 730666

專利獲證名稱

具有次鏡調焦機構之光學系統

專利所屬機關 (申請機關)

財團法人國家實驗研究院

獲證日期

2021/06/11

技術說明

在火箭發射過程中，發射環境外力可能對遙測衛星光機結構產生 角度偏移而造成成像品質的劣化，因此可透過調整次鏡的傾角來 達到調焦的目的。本專利即運用材料熱變形效應的三點式調整機 構，使次鏡傾角產生變化而改善成像品質。

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

國研院技術移轉中心

連絡電話

02-66300686

網址