透明抗電磁波薄膜

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

103119575

專利證號

I 599311

專利獲證名稱

透明抗電磁波薄膜

專利所屬機關 (申請機關)

國立清華大學

獲證日期

2017/09/11

技術說明

本發明提供一種透明抗電磁波薄膜，包含透明的一個第一基板，及一個設置於該第一基板上的抗電磁波層體。該抗電磁波層包括一透明導電層，及多條形成於該透明導電層上且彼此間隔的金屬導線，其中，該透明導電層的材料組成包括導電高分子，該第一基板於可見光波長具有一預定的光穿透率，且該抗電磁波層體對該第一基板的光穿透率的改變量小於20 %，該透明抗電磁波薄膜於0 Hz~1.8 GHz波段的電磁波屏蔽效率不小於99 %。依本發明所製的產品適用於透明輕便型抗電磁波之防護罩，如高階手機或電腦防護罩。 This invention provides a transparent EMI shielding thin film, which comprises a first substrate, and an EMI shielding body that disposes on the first substrate. The EMI shielding body includes a transparent conductive layer, and a plurality of discrete metal wires that forms on the transparent conductive layer, wherein the transparent conductive layer includes conductive polymer, and the first substrate contain a predetermined transmittance in visible light wavelengths, such that the EMI shielding body making the change of the predetermined transmittance is less than 20 %.

備註

本會(收文號1110060946)同意該校111年9月29日清智財字第1119007219號函申請終止維護專利(國立清華大學)

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

智財技轉組

連絡電話

03-5715131-62219

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