以薄膜層進行銅導線晶片之銲線製程方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

093108355

專利證號

I 236078

專利獲證名稱

以薄膜層進行銅導線晶片之銲線製程方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立中正大學

獲證日期

2005/07/11

技術說明

本發明以創新之薄膜層進行銅導線晶片之銲線製程方法,其係於利用化學溶液 以一預定之時 間,使銅晶片之表面生成有助於銲線之薄膜,藉此可使得銲接之品質大幅提 升。

備註

本部(收文號1030045131)同意該校103年6月25日1030005486號函申請終止維護專利

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

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