雙階段虛擬量測方法Dual-phase virtual metrlogy method

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

美國

專利申請案號

11/879,562

專利證號

US7603328B2

專利獲證名稱

雙階段虛擬量測方法Dual-phase virtual metrlogy method

專利所屬機關 (申請機關)

國立成功大學

獲證日期

2009/10/13

技術說明

本發明提出一種虛擬量測系統之應用方法。為兼顧即時性與正確性，此方法係將虛擬量測結果分兩階段輸出。階段一着重即時性，即在收齊某一片晶圓的所有製程資料後，立刻計算該片晶圓的虛擬量測質(簡稱VMI)並輸出。階段二着重正確性，即必須等待收到可供重新訓練或微調之實際量測質後，才再重算具實際量測值之晶圓所在的晶圓盒內之所有晶圓的虛擬量測質(簡稱VMII)並輸出。為判斷VMI 及VMII的預測結果是否可被信賴，在輸出VMI 及VMII 之同時，亦會一併輸出該虛擬量測質所伴隨的信心指標(Reliance Index)及製程參數整體相似度指標(Global Similarity Index)。如發現該虛擬量測質無法被信賴時，則該虛擬量測質將不被採用。

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

企業關係與技轉中心

連絡電話

06-2360524

網址