聚焦與感光式微透鏡陣列之製法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

092107224

專利證號

I 205164

專利獲證名稱

聚焦與感光式微透鏡陣列之製法

專利所屬機關 (申請機關)

國立中興大學

獲證日期

2004/06/21

技術說明

聚焦與感光式微透鏡陣列之製法，主要包括：一、預備步驟；二、曝光成型步驟；三、導電層成型步驟；四、複製翻模 步驟；五、徽透鏡成型步驟；六、成品步驟。本發明利用光學微影之近接式曝光法，在光罩與光阻層之間隔一預定空 隙，經曝光與顯影後，得以形成微透鏡陣列，再加以電鑄成形為模具，供日後量產。其兼具精密度高且生產成本低、製 程穩定及應用範圍廣等各種優異效果；尤其，以不同的間隔部讓紫外線光源產生不同的繞射現象，並以不同的間距照射 於光阻層而產生特定幾何外形之微透鏡陣列，可應用於各式微米領域的科技產品中。

備註

本部(收文號1060063873)同意該校106年8月10日興產字1064300420號函申請終止維護專利 多填I為了儲存規則

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

技術授權中心

連絡電話

04-22851811

網址