一種在塑膠基板上製作二氧化矽硬化膜之材料與方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

095102481

專利證號

I 316562

專利獲證名稱

一種在塑膠基板上製作二氧化矽硬化膜之材料與方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立虎尾科技大學

獲證日期

2009/11/01

技術說明

本研發成果係有關一種在塑膠基板上製作二氧化矽硬化膜之材料與方法，主要係指可在低溫環境下，以具有較穩定、易操作且低設備成本的四甲基矽烷有機分子為製程之其一源材料，並加入適當比例的氧氣為另一源材料參與化學反應，而於塑膠基板表面以電漿增強化學氣相沉積方法製作二氧化矽硬化膜，讓塑膠基板表面沉積兼具優異均勻性與硬度之二氧化矽硬化膜，藉此，透過上述的材料與其製作方法，不僅可取代傳統利用浸漬（dipping）法沉積時造成薄膜厚度不均勻的缺點，而且有助提高塑膠基板於產業之附加價值與競爭力。 This technology describes the material and method for the preparation of hard coatings. Tetramethylsilane (TMS) and oxygen were employed as precursors to deposit silicon oxide films on plastic substrates at low temperature by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) technology. A silicon oxide hard coating with superior surface uniformity and mechanical hardness was obtained. By the used materials and preparation method, the commercially used hard coatings prepared by using a dipping process can be replaced, which benefiting in developing a great deal of additional value and competition in related plastic industry.

備註

本部(收文號1040068327)同意該校104年9月16日虎科大智財字第10434001860號函申請終止維護專利(虎尾)

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

智財技轉組

連絡電話

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