發明
中華民國
094120374
I 285914
快速連續式濺鍍設備之構造
明新學校財團法人明新科技大學
2007/08/21
一種快速連續式濺鍍設備之構造,該設備至少包含入料區.濺鍍區及出料區;其中,入料區之入口 與出料區之出口係位於該設備之同一側,入料區與濺鍍區之間係設有一高真空區,濺鍍區與出料 區之間則設有一暫存區,該暫存區係可提供則向傳送功能
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