用於高密度磁性記錄媒體之奈米複合薄膜之製造

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

091132912

專利證號

200160

專利獲證名稱

用於高密度磁性記錄媒體之奈米複合薄膜之製造

專利所屬機關 (申請機關)

中央研究院

獲證日期

2004/03/26

技術說明

本發明係關於製造供高密度磁性資料儲存用之磁性顆粒狀薄膜之技術，其中使磁性晶粒散 佈於非磁性之非晶質基地中，且磁性晶粒各被晶粒限制材料所包圍，此晶粒限制材料在退 火過程中可抑制晶粒之成長。 Techniques for fabricating magnetic granular films for high-density magnetic data storage, where magnetic grains are dispersed in a non-magnetic amorphous matrix and each are surrounded by a grain-confining material which inhibits growth of grains during annealing.

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

智財技轉處

連絡電話

02-2787-2508

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