低溫製造微型發電機的製程方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

109125490

專利證號

I 776196

專利獲證名稱

低溫製造微型發電機的製程方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立虎尾科技大學

獲證日期

2022/09/01

技術說明

由於人類對於生活上一電能的需求日益增大，自然能源於未來將供不應求，為了能找到產生該電能有效的替代對策，一微型發電機的發展日漸興盛，利用該微型發電機的奈米結構形成便於攜帶或穿戴之一物品，於震動或晃動的情況下可將一機械能轉換成該電能。 現行的該微型發電機於製作過程中需在一銦錫氧化物基板上進行蝕刻，以達到後續該微型發電機最大效益，傳統的一蝕刻技術步驟多為在該銦錫氧化物基板上塗覆一光阻，再以一光罩覆蓋於該光阻上方，接著以一黃光照明進行蝕刻，清洗後該銦錫氧化物基板便可使用，由於塗佈該光阻以及照明步驟皆須在一黃光室中進行，且該光阻材料價格昂貴，蝕刻後的銦錫氧化物也需以特殊的洗滌液清洗，整個製成步驟皆繁瑣不便。 本發明之特點 (1) 該蝕刻步驟於一般環境下加抽風操作即可，可無須在黃光室內。 (2) 該蝕刻膏的價格低於現行使用的一光阻之價格。 (3) 該蝕刻圖板以網轉印的方式直接印在該第一銦錫氧化物薄膜上時不需使用到一光罩，該網板相對的亦比較便宜，該網板可依據所需決定尺寸，使用後該網板無須以特殊溶液清洗，清水洗滌即可。 (4) 該蝕刻步驟於網轉印時使用的一網轉印機與現行蝕刻步驟所使用的一曝光機或一雷射機相比便宜許多，網轉印時可同時檢查該第一銦錫氧化物基板之線路是否異常。 (5) 蝕刻膏可在室溫下進行蝕刻，因該第一銦錫氧化物基板阻值不同可調整蝕刻的反應溫度，其中，蝕刻率與反應溫度成正比。 (6) 該蝕刻步驟完成後該第一銦錫氧化物基板於陰暗處保存即可。

備註

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