位移量測系統及其方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

098115384

專利證號

I 390184

專利獲證名稱

位移量測系統及其方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立交通大學

獲證日期

2013/03/21

技術說明

本發明是利用一個簡單的干涉系統以及只需要一個光偵測器，即時測量二維奈米等級的位移量，根據二維週期性基板成像產生之繞射光在位移前後的相位差，回推出兩個維度的位移量。本發明之位置準確性是取決於二維週期性基板的週期大小，並且可以準確到奈米的等級。透過將同調雷射光源正向聚焦入射到一個週期為數百奈米之二維結構之光子晶體基板時，其遠場成像的結果會產生數個一階繞射的光點，將其中兩道一階繞射光束與第零階光束分別在兩個正交平面上干涉，形成二維的棋盤式干涉圖形。將二維移動平台移動前與移動後之干涉圖形利用一個CCD讀取紀錄訊號，再經訊號處理量得兩個方向移動前後之相位差，而推算出裝置二維光柵之移動平台的位移量。本發明僅使用一套簡單的干涉系統及一個CCD光記錄器，便可同時監控二維之位移以及旋轉量，量測成本及準確性也大為改善。 Real-time interferometric two-dimensional nanometric-scale position monitoring is proposed and demonstrated via a simple 2D interferometric setup by probing a 2D periodic photonic crystal plate. The position accuracy is highly dependent on the period of the photonic crystal plate and can be down to nm as demonstrated in the present work. The proposed setup is capable of simultaneous two-dimensional translational movement detection as well as rotation detection.

備註

本部(收文號1080035227)同意該校108年6月4日交大研產學字第1081004865號函申請終止維護專利。

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