掃描式UV-LED曝光裝置SCANNED UV-LED EXPOSURE DEVICE

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

美國

專利申請案號

13/934,511

專利證號

US 8,809,813 B1

專利獲證名稱

掃描式UV-LED曝光裝置SCANNED UV-LED EXPOSURE DEVICE

專利所屬機關 (申請機關)

國立中央大學

獲證日期

2014/08/19

技術說明

本創作之掃描式UV-LED曝光機系統，運用一以固定速率做週期循環之UV-LED曝光光源，對大面積目標區域進行掃描曝光，此週期循環之UV-LED曝光光源以一固定速率旋轉，在進行曝光製程時不需停止，達到可將曝光光源不斷循環重複利用而增加能量使用效率之目的，有效改善了習之PCB曝光製程技術，在使用光源對一定區域之光阻基板掃描曝光時，須重複進行移動光源→煞車→移動光源所造成因掃描速度不規律而產生之曝光均勻性不足的問題，並因可同時進行上下曝光台之曝光而增加產速，另外在上下曝光台均可考慮增設工作準備以便更大幅度地增加產速。 系統之照明單元由二維方向佈置之發光二極體陣列組成，能有效疊加各LED燈條的輻射能。該發光二極體陣列平行於曝光台線性目標區域縱向方向之排列保持一定距離之錯位，此排列錯位之做法主要是增加發光二極體陣列光源對於目標曝光區域之色溫、發光效率、輝度以及照度、之均勻性，改善習之技術中光源重疊照明區域之均勻型不足之問題。 The creation scanning UV-LED exposure machine system, the use of a fixed rate cycle of the UV-LED exposure light source, the scanning exposure of the target area of the large area, this cycle of the UV-LED exposure light source to rotate at a fixed ratewithout stopping during the exposure process, achieve the exposure light source can be continuously loop reuse and increase the efficiency of energy use, and effectively improve the learning of PCB exposure process technology, exposure of the photoresist substrate scan of a certain area in the use of light source→ move the light source caused by the lack of uniformity of exposure arising due to irregular scanning speed problem → brakes, move the light source to be repeated, and simultaneously up and down the lighthouse of exposure and increased production speed, the other can be in the upper and lower exposure stageconsider additional work to prepare for a more substantial increase in production speed.

備註

本部(收文號1100070341)同意該校110年11月25日中大研產字第1101401422號函申請終止維護專利(中央)

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

智權技轉組

連絡電話

03-4227151轉27076

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