輻射式加熱模組與真空反應裝置

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

110144027

專利證號

I 793878

專利獲證名稱

輻射式加熱模組與真空反應裝置

專利所屬機關 (申請機關)

財團法人國家實驗研究院

獲證日期

2023/02/21

技術說明

真空製程系統中，輻射式加熱器多為電熱管或石英燈等電熱材料，設置於腔體內再藉由feedthrough拉出電源，因製程關係往往需通入反應氣體，而真空中施加之高電壓容易因通入之氣氛產生放電現象，若氣體具腐蝕性，則加熱元件容易因此受損。本技術以石英套管將石英加熱燈隔絕於真空系統外(即大氣端)，可將高壓電路移出腔體，避免放電與加熱器因通入氣體造成損壞之風險。

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

國研院技術移轉中心

連絡電話

02-66300686

網址