用於光電元件之金屬薄膜及其製造方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

097129619

專利證號

I 434327

專利獲證名稱

用於光電元件之金屬薄膜及其製造方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立臺灣大學

獲證日期

2014/04/11

技術說明

本發明中我們描述一個的壓印技術，稱為『直接式奈米壓印金屬技術』，這種技術主要能夠將金屬直接壓印成週期性的波浪狀與週期性的碗形結構以形成孔洞陣列。這類含有週期性結構的金屬能夠引發表面電漿共振現象（surface plasmons resonance, SPR）導致其光穿透律的異常提昇（異常穿透現象,extraotdinary transmission），奈米壓印技術因為能夠壓印出不同深淺與不同週期的金屬結構，而控制並調變出不同工作波段（work wavelength）與不同的光穿透律（transmittance），能應用製作各種光電元件（optoelectronic devices）的應用，包括：偏光片(polarizer)、彩色濾光片(color filter)、表面電漿感測器(SPR sensor)、光偵測器(photodetector)、太陽能電池(solar cells)等。 We describe a thermal embossing imprint method, which we name “nano-imprinting in metal” (NIM), for patterning metal films with a variety of profiles. Metal films exhibiting either perforated hole-arrays or corrugated structures with various surface morphologies can be fabricated rapidly. The SPR phenomenon allowed energy coupling to the other side of the textured metal film, causing a dramatic increase in the transmission. As a technique for readily controlling the working wavelength and transmittance, the NIM method has great potential for application in various optoelectronic devices.

備註

本部(收文號1100033534)同意該校110年6月9日校研發字第1100036312號函申請終止維護專利(台大)

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

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