甲芬那酸用於作為新穎基質的用途

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

104110030

專利證號

I 532990

專利獲證名稱

甲芬那酸用於作為新穎基質的用途

專利所屬機關 (申請機關)

國立中山大學

獲證日期

2016/05/11

技術說明

本發明之主要目的係提供一種呋喃甲酸之用途，係作為新穎基質，應用於基質輔助雷射脫附游離質譜法，以提升小分子分析物之分析可信度者。為達到前述發明目的，本發明所運用之技術手段及藉由該技術手段所能達到之功效包含有，一種呋喃甲酸之用途，係作為新穎基質，應用於基質輔助雷射脫附游離質譜法，其中，呋喃甲酸係以體積比為1：1之比例溶解於含0.1%三氟乙酸之甲醇。本發明之呋喃甲酸之用途，其中，呋喃甲酸較佳係以分子比為1：1～1：103之比例混合一分析物，以共同形成一結晶物，且該結晶物較佳係以波長為337 nm之高能量雷射光束激發形成一氣相離子。 Uses of furoic acid and mefenamic acid being novel matrixes applying to matrix-assisted laser desorption/ionization-mass spectrometry are disclosed. Furoic acid and mefenamic acid are dissolved in methanol with 0.1% trifluoroacetic acid with a volumetric ratio being 1:1.

備註

本部(第1080005689號)同意該校108年01月21日中產營字第1081400090號函申請終止維護案。

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

產學營運及推廣教育處

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