一種利用微量局部佈植金屬前驅物製造金屬－二氧化鈦複合材料之方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

099134538

專利證號

I 414630

專利獲證名稱

一種利用微量局部佈植金屬前驅物製造金屬－二氧化鈦複合材料之方法

專利所屬機關 (申請機關)

財團法人國家實驗研究院

獲證日期

2013/11/11

技術說明

本發明提出一種利用微量局部佈植搭配光輔助還原塗佈金屬之製程方法，將金屬之液態前驅物微量局部佈植(壓電噴印、熱氣泡噴印、微液珠滴定)於具有二氧化鈦薄膜或奈米顆粒的基材後，再利用二氧化鈦在紫外光照射後可裂解金屬前驅物之特性，照射紫外光後將金屬還原於二氧化鈦薄膜或奈米顆粒上，達成塗佈金屬之目的。本發明製備方法有步驟簡單、適用於不同尺寸基材、均勻分散、精確控制、易於定量等特性。此外，本發明亦提供該製備方法所製得之金屬-二氧化鈦複合電極之應用。

備註

本會(收文號1110045142)同意該院111年7月14日國研授儀服院字第1110901126號函申請終止維護專利(財團法人國家實驗研究院)

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

國研院技術移轉中心

連絡電話

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