應用於射頻積體電路的對稱式雙拉線交錯結構SYMMETRIC CROSSOVER STRUCTURE OF TWO LINES FOR RF INTEGRATED CIRCUITS

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

美國

專利申請案號

10/763,192

專利證號

US 6,825,749 B1

專利獲證名稱

應用於射頻積體電路的對稱式雙拉線交錯結構SYMMETRIC CROSSOVER STRUCTURE OF TWO LINES FOR RF INTEGRATED CIRCUITS

專利所屬機關 (申請機關)

財團法人國家實驗研究院

獲證日期

2004/11/30

技術說明

應用於射頻積體電路的對稱式雙拉線交錯結構 應用於射頻積體電路的對稱式雙拉線交錯結構 應用於射頻積體電路的對稱式雙拉線交錯結構 應用於射頻積體電路的對稱式雙拉線交錯結構 應用於射頻積體電路的對稱式雙拉線交錯結構 應用於射頻積體電路的對稱式雙拉線交錯結構 應用於射頻積體電路的對稱式雙拉線交錯結構 應用於射頻積體電路的對稱式雙拉線交錯結構 應用於射頻積體電路的對稱式雙拉線交錯結構 錯結構 應用於射頻積體電路的對稱式雙拉線交錯結構 錯結構 應用於射頻積體電路的對稱式雙拉線交錯結構 錯結構 應用於射頻積體電路的對稱式雙拉線交錯結構 Symmetric Crossover Structure of Two Lines for RF Integrated CircuitsSymmetric Crossover Structure of Two Lines for RF Integrated CircuitsSymmetric Crossover Structure of Two Lines for RF Integrated CircuitsSymmetric Crossover Structure of Two Lines for RF Integrated CircuitsSymmetric Crossover Structure of Two Lines for RF Integrated CircuitsSymmetric Crossover Structure of Two Lines for RF Integrated CircuitsSymmetric Crossover Structure of Two Lines for RF Integrated CircuitsSymmetric Crossover Structure of Two Lines for RF Integrated Circuits

備註

發明人為:林哲煜、邱進峰、莊英宗、沙主榮、李莉娥 本部(收文號1050055769)同意該院105年8月2日國研業字第1050102117號函申請終止維護專利24件(國研院)

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

國研院技術移轉中心

連絡電話

02-66300686

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