緊聚焦架構下高次諧波光源產生之最佳化系統及方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

106140050

專利證號

I 645747

專利獲證名稱

緊聚焦架構下高次諧波光源產生之最佳化系統及方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立清華大學

獲證日期

2018/12/21

技術說明

【中文】 本發明提供一種緊聚焦架構下高次諧波產生之最佳化系統及方法。此系統及方法利用雷射在緊聚焦下，利用產生大量游離造成的光場快速發散來輔助高次諧波相位匹配。如何利用散焦效應達相位匹配，是可簡單透過調節光圈的孔徑大小來正確彌補， 精確控制調節高次諧波中心能量及擴展其截止頻率。 【英文】 A high order harmonic generation optimization system and method in tight focusing geometry is provided. The system and method takes advantage of the additional intrinsic atomic dipole phase mismatch introduced by the rapid laser defocusing. This phase can be precisely controlled by adjusting the aperture of a simple iris to correctly compensate free electron dispersion, resulting in tunable harmonic energy and cutoff extension. The implementation of this method in the laboratory is easy and can be extended to other targets and laser wavelengths.

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

智財技轉組

連絡電話

03-5715131-62219

網址