發明
中華民國
096117043
I 341398
導光板模仁製程
國立中興大學
2011/05/01
一種導光板模仁製程,主要是於一基板至少一表面形成有不連續的多數披覆區,再將該基板表面依時間差暴露於蝕刻源 中,使該基板表面或披覆區依據與蝕刻源接觸時問的長短,形成具有高度落差的多數凹部或多數凸部。藉此,以該模仁 製成導光板及其表面具有深淺變化的多數網點,而能簡化該模仁的製程,並節省工時。
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