表層拓印高分子及其製備方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

103131954

專利證號

I 534205

專利獲證名稱

表層拓印高分子及其製備方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立交通大學

獲證日期

2016/05/21

技術說明

本發明是為解決分子拓印技術與拓印高分子目前應用上的限制，提供在單一製備步驟中將標的分子拓印在高分子表面的方法。該表面拓印技術利用交聯劑比功能性單體更快的水解縮合速率，使交聯劑先形成高分子骨架，再於高分子表面導入功能性單體與分子模板的複合體，形成表面拓印高分子。相較於傳統將分子均勻拓印於高分子內部的做法，表面拓印技術可提高拓印分子在基材中的移除比例，提供較多開放的拓印孔洞，因而提高拓印高分子的吸附量與吸附選擇性。另外，表面拓印高分子可避免吸附時分子在高分子中的質傳限制，因此可快速達到吸附平衡。 This invention provides a simple method to imprint molecules in the surface region of polymers based on faster polymerization between the cross-linkers than that between the cross-linkers and the functional monomers. Different from conventional imprinting methods, the templates are incorporated into the polymers when the bulk matrix has been formed in the surface-imprinting technique. The surface-imprinted polymers enable template removal easier to leave a higher level of imprinted cavities for rebinding targets. Without diffusion in the bulk matrix, the surface-imprinted polymers also exhibit high adsorption kinetics.

備註

本會(收文號1110027136)回應該校111年5月12日陽明交大研產學字第1110015716號函申請終止維護專利(國立陽明交通大學)

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