高熵奈米材料及其製備方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

109130450

專利證號

I 734605

專利獲證名稱

高熵奈米材料及其製備方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立中央大學

獲證日期

2021/07/21

技術說明

本提案提供一種新的高熵合金奈米粒子的製備方法,其直接以雷射光照射金屬鹽類以使金屬鹽類直接還原成高熵合金，且具有成本低廉、製程快速、自由度高及高通量等優點。 This proposal provides a new method for preparing nano particles of high-entropy alloys, which directly irradiates metal salts with laser light to directly reduce metal salts to high-entropy alloys. Flux and other advantages.

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

智權技轉組

連絡電話

03-4227151轉27076

網址