自我注入式雷射二極體之全光2R再生器 | 專利查詢

自我注入式雷射二極體之全光2R再生器


專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

095110433

專利證號

I 302049

專利獲證名稱

自我注入式雷射二極體之全光2R再生器

專利所屬機關 (申請機關)

國立交通大學

獲證日期

2008/10/11

技術說明

我們提出一個小型且有經濟效率的自我注入雷射二極體來作為全光2R再生器。此全新再生元件的特色在於其內建的光纖 光柵取代了傳統架構中昂貴的外部雷射,此外,其本身就可以產生增益,因此,在傳輸系統中EDFA的大量使用可以免 除。實驗也驗證了此全光2R再生器對資料的通透性高、再生的效果良好並具有可串接性。

備註

本部(收文號1060016225)同意該校106年3月7日交大研產學字第1061002219號函申請終止維護專利

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

智慧財產權中心

連絡電話

03-5738251


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