高分子薄膜、其製造方法及其應用之抗反射元件與感測元件

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

105134784

專利證號

I 596144

專利獲證名稱

高分子薄膜、其製造方法及其應用之抗反射元件與感測元件

專利所屬機關 (申請機關)

國立中興大學

獲證日期

2017/08/21

技術說明

此研究以朗繆爾-布勞傑特自組裝技術備製大面積連續堆積單層二氧化矽膠體晶體/ETPTA高分子複合材料於聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)高分子基板表面，後利用氫氟酸水溶液濕式蝕刻二氧化矽膠體，以製備仿蜂巢具不同凹孔結構規則排列於PET高分子基材，其凹孔結構具漸進式折射率，可降低寬廣波長範圍之入射光反射率，並提高入射光穿透率。此外，此凹孔結構可以氟化物改質，降低其表面能，以製備具自潔能力之超疏水且抗反射塗佈於PET高分子基材。 This study reports a roll-to-roll scalable Langmuir-Blodgett technology for fabricating honeycomb-like monolayer hexagonal close-packed silica colloidal crystal/polyethoxylated trimethylol-propane triacrylate composites on polyethylene terephthalate (PET) substrates. We further demonstrate that the silica colloids monolayers can be etched to pattern honeycomb-like nanohole strucuture arrays directly on PET substrates. The resulting nanohole arrays exhibit broadband antireflective and superhydrophobic properties after surface modification.

備註

本部(收文號1110019123)同意該校111年4月1日興產字第1114300232號函申請終止維護專利(國立中興大學)

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

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