應用於微奈米壓印製程之模具A MICRO/NANO-IMPRINT MOLD OF THE FABRICATING PROCESS

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

099139717

專利證號

I 400160

專利獲證名稱

應用於微奈米壓印製程之模具A MICRO/NANO-IMPRINT MOLD OF THE FABRICATING PROCESS

專利所屬機關 (申請機關)

國立臺灣科技大學

獲證日期

2013/07/01

技術說明

為提升藍白光LED發光效率及亮度，使用表面具有結構的藍寶石晶圓(patterned sapphire wafer)配合側向磊晶技術，以達成較少內部結晶缺陷的氮化鎵磊晶層，已逐漸成為高亮度LED製作的主要趨勢。許多最新的研究均指出所使用的表面具有結構的藍寶石晶圓其結構如能達到次微米線寬(<1m)及高深寬比，將可使所製作的LED達到較好的發光效率及亮度，然而傳統微影方法或因無法達到所需微小線寬，或因無法製作高深寬比抗蝕刻結構，正面臨製造技術上的瓶頸，而本專利所提出的抗蝕刻結構及其製造方法正是達成此一需求的最佳方法。未來本專利將具有極大市場價值及商品化利益，若在取得多國專利後，專利授權及技術移轉商機相當大。尤其LED產業為台灣重要產業，且面臨日、韓、中國的競爭，本專利的取得對台灣LED領先地位鞏固，將具有關鍵作用。 For improving brighttness and efficiency patterned sapphire wafers (PSS) are used in LED industry more and more. However conventional method to fabricate PSS is by photolithpgraphy. It is limited to high resolution with low aspect ratio or low resolution with high aspect ratio. This patent provides a new solution. With special imprinting technique we can achieve high resolution and high aspect ratio at the same time. In addition, materials with high etching selectivity can be used in the new method. The patent may create great business opportunities in the future to Taiwan LED industry.

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

技術移轉中心

連絡電話

02-2733-3141#7346

網址