微奈米壓印機台

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

097100215

專利證號

I 341795

專利獲證名稱

微奈米壓印機台

專利所屬機關 (申請機關)

國立成功大學

獲證日期

2011/05/11

技術說明

本發明是有關於一種微奈米壓印機台，且特別是有關於一種利用氣囊來進行壓印之微奈米壓印機台。 一種微奈米壓印機台。此微奈米壓印機台至少包括一基座、一承載座、一升降螺桿、以及一氣囊。承載座設置在基座之表面上。升降螺桿架設在承載座之上，且可相對於承載座升降。氣囊設置在升降螺桿之下端，且與承載座相對。此一裝置用於執行奈米壓印技術，達到加熱與加壓之效果，同時兼顧平面之平整度。因此，本發明之目的就是在提供一種微奈米壓印機台，其係透過氣囊來對壓印模仁與基板施加壓力，故可大幅提高壓印之平行度。本發明之另一目的是在提供一種微奈米壓印機台，其氣囊可承受高壓，且氣囊下側設有隔熱墊片，可應用在較高壓印壓力與壓印溫度較高之製程，因此應用性相當廣。本發明之又一目的是在提供一種微奈米壓印機台，可提供高平行度之壓印，因此可提升圖案壓印之均勻度與可靠度。本發明之再一目的是在提供一種微奈米壓印機台，其具有二段式升降螺桿，可使氣囊快速下降至壓印模仁上，並可微調節氣囊施加在壓印模仁上的壓力，因此可同時兼顧製程速度與製程可靠度。 A micro/nano imprinting apparatus is described. The micro/nano imprinting apparatus comprises a base, a carrier, a vertical screw and an air bag . The carrier is disposed on a surface of the base. The vertical screw is mounted over the carrier and can rise or descend in relation to the carrier. The air bag is fixed to a lower end of the vertical screw and is opposite to the carrier.

備註

本部(收文號1080069828)同意該校108年10月22日成大技轉字第1085600263號函所報終止維護專利。

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