Error measurement device of linear stage and error measurement method of linear stage

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

美國

專利申請案號

17/071,510

專利證號

US 11,335,580 B2

專利獲證名稱

Error measurement device of linear stage and error measurement method of linear stage

專利所屬機關 (申請機關)

國立成功大學

獲證日期

2022/05/17

技術說明

目前產業界對於定位精度的校驗大多使用雷射干涉儀，本專利特色在於使用非干涉原理，來提供一種移動平台定位誤差量測方法及裝置，然而當平台移動時，除了有定位誤差外，還會有其他自由度的誤差產生，因此本專利不僅提出一個簡易、全新定位誤差量測系統外，還可同時量測多個誤差量…等優勢。

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

企業關係與技轉中心

連絡電話

06-2360524

網址