超高真空用之蒸鍍式輔助抽氣設備An Auxiliary Air-pumping Apparatus by Evaporation for Ultra High Vacuum System

專利類型

新型

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

099216455

專利證號

M 397387

專利獲證名稱

超高真空用之蒸鍍式輔助抽氣設備An Auxiliary Air-pumping Apparatus by Evaporation for Ultra High Vacuum System

專利所屬機關 (申請機關)

財團法人國家同步輻射研究中心

獲證日期

2011/02/01

技術說明

本創作係一種超高真空用之蒸鍍式輔助抽氣設備，利用釔元素之吸附氣體能力，在高真空環境將釔原子蒸鍍至此設備腔壁，釔元素在此過程及附著腔壁後，會大量吸附真空中之剩餘氣體，使本設備具備結拖幫浦之功能。 詳細說明 本創作係關於一種能藉電子束轟擊使釔金屬棒加熱至其熔點，特別是指於釔元素蒸鍍過程將大量吸附除鈍氣以外之氣體使環境被抽成超高真空狀態之裝置。本創作所欲解決之問題為先前該專利為非揮發合金材料吸附氣體能力受限於其繁複的操作程序，其吸氣效果尤其是針對超高真空中主要殘餘氣體成份氫氣明顯不如本創作之金屬材料有效，也因該前案不具有如同本案之可隨時連續蒸鍍，在此過程中均可吸氣等功能。 This creation is about an auxiliary air-removal apparatus by evaporation in high vacuum. It utilizes the capability of air induction of the element yttrium. It first makes yttrium evaporate to the apparatus wall in the environment of high vacuum. After the evaporation process of the element yttrium and its being adsorbed onto the inner side of the wall, the residue gas in the vacuum environment would be adsorbed. These processes by the apparatus achieve the function of the getter pump.

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

產業企劃室

連絡電話

03-5780281 分機8418

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