奈米金屬粒子之形成方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

097134981

專利證號

I 366489

專利獲證名稱

奈米金屬粒子之形成方法

專利所屬機關 (申請機關)

中原大學

獲證日期

2012/06/21

技術說明

銅金屬化製程快速的發展，使得奈米銅粒子在未來的可行性大為提高，深具應用潛力的銅奈米墨水噴墨製程，其可快速繪製高良率線路的能力吸引了晶圓代工、LCD、LED等產業的重視。有鑑於奈米銅粒子在上述應用之重要，加上目前以化學還原法製備奈米銅粒子的文獻，都著重於在溶液中添加SDS、PVP、PVA等界面活性劑作為保護劑來控制其生成粒子大小。本實驗是利用新的化學還原劑，以化學還原法，在常溫下不需藉助模板及未加任何分散劑即可製備出奈米級銅粒子。相較於化學汽相沉積、機械研磨法或模板法，具有製備簡易，合成時間較短，粒徑大小易控制等懮點。所製備出之奈米銅粒子可小至20nm粒徑的，為目前所有發表研究期刊中，所能製造出之最小的奈米銅粒子。除此，亦可藉由在不同溶劑環境下反應，合成不同粒徑大小之柰米銅粒子。

備註

本部(收文號1050019607)同意該校105年3月21日原產字第1050000809號函申請終止維護專利

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