利用雷射使光學元件表面平滑化的製作方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

097128906

專利證號

I 390242

專利獲證名稱

利用雷射使光學元件表面平滑化的製作方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立臺灣大學

獲證日期

2013/03/21

技術說明

光學共振腔已經被廣泛地應用在許多方面，如微電射，光過濾器，光開關，高敏感感應器，生物感測器，光內部傳輸等等。然而，一般的光學共振腔由於製程上的問題，導致表面粗糙，而造成嚴重的損耗，減低了共振腔的效率。這個發明是利用KrF準分子雷射重整系統 (ＫrF excimer laser reformation system) 將矽奈／微米共振腔結構融化重新形成。融化的矽共振腔由於表面張力重新形成以後，變得非常平滑，呈獻原子尺寸的平整度。

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

產學合作總中心

連絡電話

33669945

網址