薄膜塗佈方法Method For Coating Thin Film

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

102134265

專利證號

I 511180

專利獲證名稱

薄膜塗佈方法Method For Coating Thin Film

專利所屬機關 (申請機關)

國立交通大學

獲證日期

2015/12/01

技術說明

目前有機光電元件以高成本之蒸鍍製程來達到多層結構的目的。蒸鍍製程成本高，為了降低成本及可量產性，延續本實驗室自行研發出利用刮刀技術製作多層結構之有機發光二極體，此技術有效的提高元件表現，並於小尺度(μm)下可均勻成膜。利用大型自動刮刀塗佈機，以製作均勻之大面積薄膜，而本實驗室發現在面積為10cm x 10cm以上的基板塗佈過程中刮刀以等速度進行薄膜沉積，會造成整體膜厚不均勻，前後端(與刮刀行進方向平行)的膜厚差異極大，所以用相同的純刮技術，發展出連續供料的不同製程手法，相較於一次供料的手法，更能在膜厚不均的問題上有較佳的解決方案。目前我們的技術已經可以做到在前後11cm的範圍內，膜厚的均勻性達到最佳化，以往在使用等速度刮刀刮膜，前後的膜厚差距會達到10nm以上，使用本發明技術刮膜，可以使前後段的膜厚差距減少至5nm以下。 Organic optoelectronic components to the high cost of the evaporation process to achieve the purpose of the multilayer structure. Evaporation process in addition to the high cost, there can not easily make a large area.In order to reduce costs and production continue in our laboratory developed its own scraper technology to produce multi-layer structure of organic light-emitting diodes, this technology effectively improve the performance of components and small-scale (μm) can be uniform film. Further, another process method can be used is continuous feeding material for blade coating. Continuous feeding material compares with once feeding material could be much uniform for thin film. The best result which can be done is that the difference between the forepart and back part could be reduce to 5nm.

備註

本會(收文號1110027136)回應該校111年5月12日陽明交大研產學字第1110015716號函申請終止維護專利(國立陽明交通大學)

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

智慧財產權中心

連絡電話

03-5738251

網址