脈衝式磁場產生裝置Generating Apparatus of a Pulsed Magnetic Field

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

102147875

專利證號

I 524366

專利獲證名稱

脈衝式磁場產生裝置Generating Apparatus of a Pulsed Magnetic Field

專利所屬機關 (申請機關)

財團法人國家同步輻射研究中心

獲證日期

2016/03/01

技術說明

在設計脈衝磁鐵時除了磁場強度外，磁場均勻度也是重點，本技術主要目的為了改良脈衝偏踢磁鐵橫向磁場的均勻度，而設計出一種新穎具有間隙結構的單匝線圈脈衝偏踢磁鐵。實施例顯示以增加脈衝磁鐵單匝線圈寬度的方式可增加橫向磁場均勻度。經研究發現橫向磁場均勻度與間隙的距離有關，可以依單匝線圈脈衝偏踢磁鐵的結構，設計出適當的單匝線圈間隙大小來滿足橫向磁場均勻度的要求。好的磁場工作區域範圍可以達到傳統設計的兩倍以上。這對於有空間限制或者對橫向磁場均勻度有特別需求的脈衝磁鐵提供出一種新的設計方式。 A novel one-turn coil pulsed kicker magnet with gap structure is proposed to improve the uniformity of magnet field in transverse direction. It is found that the uniformity of magnet field in transverse direction depends on the gap width of the one-turn coil and the optimum gap thickness can be derived by the numerical analysis. The good field region of pulsed kicker magnet with the gap fixture is two times better than that without the gap fixture. This invention is a good way to design kicker magnet applied in the compact accelerator system and/or to require a higher uniform magnetic field in transverse direction.

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

產業企劃室

連絡電話

03-5780281 分機8418

網址