可變同調光源及物体微像擷取裝置

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

美國

專利申請案號

11/318,234

專利證號

US 7,298,545 B2

專利獲證名稱

可變同調光源及物体微像擷取裝置

專利所屬機關 (申請機關)

中央研究院

獲證日期

2007/11/20

技術說明

本發明是一套可見光可調式雷射光源，設備及其方法是利用參數共振原理 以532nm雷射光源激發置在腔體內的Stoichiometric ferroelctric 晶體 而成。晶體是根據週期性及非週期性的圖案作極化，達到最寬調的可調範 圍，晶體必須在800C以上的控溫情況下操作，始能成功。本發明亦描述一 個以此道雷射光源配合顯微光學系統，以非線性光學作用作為取得顯微映 像的技術及設備。 本發明之實施例提出一高功率、簡潔、環保和連續性調整同調光源以產生可見光和近紅外線。 本發明之實施例另提出一光學裝置，此光學裝置包括本發明實施例之光源和光學系統，以藉由物體和光源之非線性光學交互作用產生顯微影像。 上述物體具有調整同調光源之裝置，包括幫浦雷射以產生一雷射光、一光參數振盪器包括一晶體，具有一晶體結構產生一雷射光輸出曲線在特定波長下、在特定波長下之信號光和閒置光根據晶體結構之週期極化光柵輸出曲線。晶體包括複數區段相關複數輸出曲線之柵週期，各區段具有不同之晶體結構，其中至少一區段包括一晶體結構，上述晶體結構至少包括兩個柵週期，光源也包括一加熱裝置以保持晶體在一高溫下，加熱裝置可調整，因此操作溫度可控制在最低溫至最高溫之間，本發明實施例中，晶體為週期極化近化學當量鉭酸鋰(LiTaO3）(PPSLT)，加熱裝置加熱晶體約至凱式溫度373度。結合光柵之週期也會被非週期結構或類週期結構影響。 This invention relates to a tunable coherent light source comprising an optical parametric oscillator device for the visible and near infrared region based on stoichiometric ferroelectric crystal material that has periodic and aperiodic superlattice inverted domains as the parametric gain medium pumped by pulsed solid state lasers in the near uv to the visible. To avoid photorefractive damage to the crystal the crystal is operated at an elevated temperature (>80 degrees C). This invention also relates to a physical device comprising the optical parametric oscillator and an imaging and microscopy system whereby the light source described in this invention is used to produce images in the nanometer and micrometer scale by nonlinear optical interaction of the light from the source with a sample object placed under a microscope objective.

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

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