發明
中華民國
099121380
I 395657
微奈米轉印製程之夾持裝置A CLAMPING DEVICE OF MICRO/NANO IMPRINT PROCES
國立臺灣科技大學
2013/05/11
在傳統半導體製程中,微影製程中,微影製程多用光學微影技術,由於受到光源繞射極限的限制,加工線寬在90奈米以下者,其製造成本將快速的增加,而奈米轉印技術由於具有解析度高,製造速度快,生產成本低等特色,故快速的發展當中,己慢慢進入商用化市場。 在奈米轉印製程中,其主要可分成加溫軟化、加壓成形、冷卻定形及脫模等數主要階段流程,其中,於現今的製程中,升降溫過程約佔所有製程週期時間約70%之譜,而整個流程均於同一機台上完成。若能減少工件於機台上之升、降溫之時間,則相同機台之利用率及其產量將可提升達數倍。本發明揭露了一種可分離式預熱模具結構以及其使用方法。 以LCD平面顯示器背光模組導光板為例,因LED光源的導入及LCD產品的尺寸大型化,導光板必須達到厚度超薄(<0.7mm)且對角線尺寸需能大於19”。然而傳統射出成型技術無法製作此種超薄型大面積導光板,而解決方法之一便是本專利所提出的快速熱壓成型技術。未來本專利將具有極大市場價值及商品化利益,若在取得多國專利後,專利授權及技術移轉商機相當大。尤其平面顯示器產業為台灣重要產業,且面臨日、韓、中國的競爭,本專利的取得對台灣平面顯示器博型化及大型化技術的領先地位鞏固,將具有關鍵作用。且本技術已經過國科會計劃驗證確實可行。
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