塗佈裝置以及控制磁性流體之方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

100108251

專利證號

I 458567

專利獲證名稱

塗佈裝置以及控制磁性流體之方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立交通大學

獲證日期

2014/11/01

技術說明

旋轉塗佈技術是將塗料置於欲塗佈之平面之中心，接著旋轉平面產生離心力使得塗料向外延展，而塗佈於平面上。例如，半導體製程經常利用旋轉塗佈技術將光阻塗料均勻塗佈於晶圓表面。然而，驅動大尺寸晶圓高速旋轉不僅耗能，且旋轉時可能造成設備振動、過熱等安全上之顧慮。此外，旋轉塗佈時，在連續薄膜波前處會產生指狀化突出。由於流體向外延展時，會選擇阻力較少的指狀化突出向外擴散，因此塗料在晶圓表面之最大塗佈面積無法達到有效率的最大值。 綜上所述，如何避免利用離心力即可驅使塗料輻射狀延展以及控制指狀化突出之數量便是目前極需努力的目標。本發明提供一種塗佈裝置、塗佈方法以及控制磁性流體之方法，其是利用一徑向磁場施加於一磁性流體，以驅使磁性流體自徑向磁場之中心往外輻射狀延展，藉以避免旋轉塗佈技術所產生的問題。 A coating device, a coating method and a method of controlling ferrofluids are provided. Applying a radial magnetic field on a ferrofluid to drive the ferrofluid moving radially from the center of the radial magnetic field, thereby avoiding issues occurred by using spin coating.

備註

本部(收文號1100065219)同意該校110年10月27日陽明交大研產學字第1100036963號函申請終止維護專利(陽明交大)

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