具有透明導電層之二維光子晶體面射型雷射

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

107105249

專利證號

I 698057

專利獲證名稱

具有透明導電層之二維光子晶體面射型雷射

專利所屬機關 (申請機關)

國立交通大學

獲證日期

2020/07/01

技術說明

一種具有創新透明導電薄膜披覆層設計之二維光子晶體雷射。藉由蝕刻製程定義出二維週期性光子晶體區域，其由複數個週期性孔洞排列所組成，且各週期性孔洞具有設計適當之週期性孔洞佔空比，接續鍍上透明導電薄膜並覆蓋整個光子晶體區以形成電流擴散層。透過優化透明導電層的設置與製程條件，可提供透光性與電流均勻散佈之途徑，除得以簡化整體製程流程與降低製程難度，也能有效提升光學侷限特性進而獲最大增益於光程反饋並實現下世代光源低閾值、小發散角與高品質之雷射輸出。

備註

本部(收文號1100030437)同意該校110年5月28日陽明交大研產學字第1100010652號函申請專利讓與(陽明交大)

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

智慧財產權中心

連絡電話

03-5738251

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