薄膜元件之多波長光學量測方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

099142378

專利證號

I 547683

專利獲證名稱

薄膜元件之多波長光學量測方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立中央大學

獲證日期

2016/09/01

技術說明

本方法利用薄膜反射係數求得其光學常數及厚度。將待測薄膜元件置於動態干涉儀量測其反射係數以避免震動因素干擾量測相位，並平均多次量測值以去除空氣擾動對量測結果之影響。其中動態干涉儀為一白光偏振光學干涉儀搭配一像素相位遮罩的攝影機，並以色散光學元件或濾光片分隔個波長進行量測。在量測波長轉換的時候，來自待測膜堆之反射相位和於空間上與參考面之光程差所造成的相位兩者轉換方式不同。本法藉由此特性將這兩者區分開來，進而求得薄膜之反射係數之相位；再搭配各波長所量到的平均強度後計算出反射係數。接著再利用正向入射下所求得之二維資料，計算出薄膜厚度、光學常數的分佈、以及基板的表面輪廓。 In this invention, both magnitude and phase of reflection coefficient of thin films are acquired in a dynamic interferometer, which is composed of an optical polarization interferometer, white light source, and a pixelated phase mask camera, to obtain the optical constants and thickness of the thin films with vibration and air turbulence resistance. Multi-wavelength measurements of phase and intensity are used to separate spatial path length difference and reflection phase difference between the reference surface and thin film surface, because they all change in different ways when measuring wavelength changes. By utilizing the two dimensional array data of phase and intensity from the camera, the distribution of the optical constants and thickness can be obtained.

備註

本部(收文號1090071728)同意該校109年11月30日中大研產字第1091401301號函申請終止維護專利(中央)

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

智權技轉組

連絡電話

03-4227151轉27076

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