奈米氣泡之形成方法Method for Forming Nano-bubble

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

美國

專利申請案號

12/423,956

專利證號

US 8,974,770 B2

專利獲證名稱

奈米氣泡之形成方法Method for Forming Nano-bubble

專利所屬機關 (申請機關)

中原大學

獲證日期

2015/03/10

技術說明

本發明揭示了一種奈米氣泡之形成方法，上述形成方法有別於習之所使用之油水乳化反應，上述形成方法包含：以一無機粒子作為一核中心，披覆至少一第一高分子於上述核中心之表面以形成一有機/無機複合粒子，其次，藉由一第一溶劑溶解移除上述有機/無機複合粒子之核中心以形成一含劑奈米粒子，接著，進行一冷凍乾燥程序，用以除去上述第一溶劑並使得上述含劑奈米粒子形成一中空奈米粒子，最後，將上述中空奈米粒子溶於一第二溶劑，以形成上述奈米氣泡。

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

產學合作暨專利技轉中心

連絡電話

(03)2651830

網址