X射線造影品質之測量評估方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

108104634

專利證號

I 677323

專利獲證名稱

X射線造影品質之測量評估方法

專利所屬機關 (申請機關)

高雄醫學大學

獲證日期

2019/11/21

技術說明

本專利技術為一個自動化的X射線造影品質分析方法，解決目前檢測操作上的不便與耗時，該技術利用互訊息的計算方法，可達到準確、快速、定量、全面地評估X光影像品質，來確保X光影像品質及穩定性。 技術特點包括如下： 1. 定量的互訊息(MI)數值與量子偵測效率(DQE)呈正比 2. 圓形階層假體設計可評估多角度方向的影像品質，因此可偵測出陽極靶之足跟效應 3. 該技術可用於評估製作X光偵測面板之影像品質均勻度 4. 製作假體成本極低

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

智財保護與科技管理組

連絡電話

07-3138030

網址