電鍍基板具反射鏡面之高亮度發光二極體及其製造方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

0091125402

專利證號

195306

專利獲證名稱

電鍍基板具反射鏡面之高亮度發光二極體及其製造方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立中興大學

獲證日期

2004/01/01

技術說明

本發明主要係關於一種電鍍基板具反射鏡面之高亮度發光二極體及其製造方法。該方法係於鍍設金屬鏡面反射層後，於 其底部使用電鍍法形成金屬永久基板；抑或鍍設一介電鏡面層及一金屬導電層後，於其底部使用電鍍法形成金屬永久基 板，此法可有效降低製造成本，並可維持反射鏡面之反射率，有助於提高LED發光效率。具電鍍基板之高亮度發光二極 體，更可該善傳統結構散熱功效不佳之缺點。

備註

本部(收文號1070026132)同意該校107年4月18日興產字第1074300247號函申請終止維護專利

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