獲得薄膜光穿透率製程參數方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

100130315

專利證號

I 438590

專利獲證名稱

獲得薄膜光穿透率製程參數方法

專利所屬機關 (申請機關)

義守大學

獲證日期

2014/05/21

技術說明

本發明主要目的在探討觸控面板蒸鍍後光穿透率與其可能影響因子的複雜關係。由蒸鍍作業流程可知，蒸鍍後之面板光穿透率與蒸鍍靶材、蒸鍍層數、蒸鍍膜厚度、蒸鍍速度、蒸鍍時間、蒸鍍氣壓、蒸鍍溫度、面板置放位置與支架轉速等相關參數間必然存在著一種非常複雜的非線性對應關係，非利用一般物理、化學定律即可推衍而獲得其映射模式，故而此研究以類神經網路為手段，藉由蒸鍍程序產品的輸入/輸出相關數據，透過類神經網路的學習分析技巧來決定觸控面板蒸鍍後光穿透率與蒸鍍程序相關參數間的關係。在我們的研究結果發現，「石英片震盪參數」、「靶材支撐架轉速」、「TP擺放位置」及「蒸鍍靶材厚度設定值(若為多層蒸鍍，每層靶材厚度設定值均須)」為光穿透率最重要之影響參數。因此，日後在TP的蒸鍍作業中，針對客戶須所需求之特定光穿透率的TP，公司可先以一訓練完整之神經網路做模擬分析，進而設定蒸鍍作業所須之控制參數，準確達成觸控面板光穿透率之需求，藉此提高生產良率並降低成本。 This research presents the transmittance estimations of touch panel (TP) film by using neural network (NN). The transmittance of TP has the complex relationship with some factors such as the target composition, the layers of coating, the thickness of film, the speed, the time, the pressure and the temperature of evaporation, the position of panel placed and the rotation speed of evaporator’s holder. Thus, we use NN to catch the mapping between the transmittance and its all possible factors. In research, we conclude that the quartz crystal deposition monitor’s value, holder’s rotation speed, substrate position and coating target thickness setting value are four important influencing factors which have the high correlations with film’s transmittance. An artificial intelligent evaporation decision mechanism then can be developed. Based on this mechanism, the control parameters of the whole evaporation process can be precisely set and then the accurate transmittance can be achieved.

備註

依112.03.27.本會112年第1次研發成果管理審查會決議辦理 本會(收文號1110075041)同意該校111年12月8日義大產字第1110014358號函申請終止維護專利(義守大學)

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