電漿輔原子層沉積製程之間歇噴射電漿裝置

專利類型

新型

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

099208093

專利證號

M 387707

專利獲證名稱

電漿輔原子層沉積製程之間歇噴射電漿裝置

專利所屬機關 (申請機關)

財團法人國家實驗研究院

獲證日期

2010/09/01

技術說明

本創作係有關於一種電漿輔原子層沉積製程之間歇噴射電漿裝置，其包含一噴射本體；一第一遮擋件，其設於噴射本體下方且環繞形成環狀，其上分佈有複數個間隔之穿孔；一第二遮擋件，其環繞形成環狀且設於第一遮擋件之下方，且第二遮擋件上分佈有複數個間隔之噴孔；及一動力旋轉裝置，可令該第一遮擋件旋轉，進而讓穿孔與噴孔間歇性呈現相互對齊、交錯，而本創作透過簡單的機構作動配合便可達到快速、高頻率開/關感應耦合電漿之噴射，且旋轉作動模式中，組件間不會產生相互的磨擦。

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

國研院技術移轉中心

連絡電話

02-66300686

網址