以DNA做為電子束微影試劑以製作奈米圖案

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

094135889

專利證號

I 296045

專利獲證名稱

以DNA做為電子束微影試劑以製作奈米圖案

專利所屬機關 (申請機關)

中央研究院

獲證日期

2008/04/21

技術說明

此技術發現DNA具有如同電子微影術所用之光阻試劑，但較其簡便直接，一般的光阻試劑皆對 生物樣品多少顯現出毒性，且其處理過程中須經加熱與化學侵蝕，結果將使產品增加一些不 穩定度。因此這項發明可針對生物醫學方面的樣品，較便利製作出奈米等級的結構，提供電 子微影技術另一發展方向。 This work demonstrates that DNA has the similar function as the resist for e- beam lithography. However, the conventional resist is often toxic to the biological samples, and the procedures involved may require cuing and chemical etching that increases the uncertainty for the end products. Using DNA for patterning certainly provides an alternative way for nano-fabrication, particularly for bio-related nano-structures.

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

智財技轉處

連絡電話

02-2787-2508

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