高數值孔徑微透鏡與其陣列之製法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

096110132

專利證號

I 336406

專利獲證名稱

高數值孔徑微透鏡與其陣列之製法

專利所屬機關 (申請機關)

國立中興大學

獲證日期

2011/01/21

技術說明

本發明一種高數值孔徑微透鏡與其陣列之製法，主要是利用光穿透微透鏡後之散射效果，形成高數值孔徑透鏡之製法，在製程中，先以光阻熱熔(Reflow of Photoresist)法做出所需之微透鏡玻璃光罩結構，再以超過光阻之玻璃轉換溫度之高溫加熱，使得光阻表面能量趨近於最小，而形成近似球面的形狀，再以玻璃光罩形狀轉移之原理，在一基材上塗佈較厚的光阻層，即可得到高NA微透鏡陣列結構，其製程穩定且製作簡單，並可大量翻模複製，以大大降低製作成本。 This invention addresses a high numerical aperture (N.A.) lens fabrication method by using the light passing through a microlens mask resulting in the scattering effect. The microlens mask with microlens array is firstly using thermal reflow photoresist onto a transparent glass. When heating temperature is above the material glass transition temperature, the material is melted in liquid from its surface. Since the heat increasing molecular dynamic energy and surface tension effect in photoresist, a similar hemi-sphere profile is generated. But this method is limited to low N.A. lens. New progress uses a microlens array mask by proximity printing to transfer patterns into high N.A. lens array. A replication process by molding process also can achieve to mass production.

備註

本部(收文號1060063873)同意該校106年8月10日興產字1064300420號函申請終止維護專利

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