平台定位系統及其方法與其使用之對位圖樣POSITIONING SYSTEM AND METHOD FOR PRECISE STAGE AND PATTERN USED THEREOF

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

101104332

專利證號

I 447348

專利獲證名稱

平台定位系統及其方法與其使用之對位圖樣POSITIONING SYSTEM AND METHOD FOR PRECISE STAGE AND PATTERN USED THEREOF

專利所屬機關 (申請機關)

財團法人國家同步輻射研究中心

獲證日期

2014/08/01

技術說明

此發明要解決的問題是在於高精密移動平台的位置校正。精密移動平台若有遇到旋轉或是多移動軸的情況，通常會面臨到機械定位漂移的問題，此發明能夠克服在多個移動維度下，旋轉，或是傾斜，以目前光學干涉儀無法架設於旋轉軸，此方法提供一個修正位置的方法，其準確度可達數個奈米以下(取決於電子聚焦以及掃描的穩定度，目前可以達到的工藝水準，約為數個奈米)。舉例而言，如圖示的旋轉台。如圖一所示(圖在最後頁)。 舉例:此旋轉台具有兩個旋轉台，下方有三軸微動平台。當樣品置於半圓柱型的中央時，如果要保持旋轉台的中心不變化，此時無法使用水平方向的干涉儀做定位，因為反射面鏡會跑掉。轉動時軸造成的搖擺(wobble)，會使得樣品偏離原來光的位置。 此時若於樣品上方架設一個掃描式電子聚焦束，並且在樣品附近黏貼上特製對準圖樣，可以鎖定圖樣的位置，由於圖樣與樣品之間是一個定值，所以只要鎖定圖樣的位置，就等於鎖定了樣品的位置。 本發明利用快速掃描聚焦電子束，對準圖樣，以及反射回來的電子訊號(包含二次電子訊號，背向散射電子訊號，但不限定於此)，以及電子電路，能夠計算出位置隨時間的偏移量，並且予以即時修正。 A positioning system for precise stage is provided. It includes a designed pattern on a stage; an electron beam column generating a focused electron beam to scan the designed pattern and produce electron signal; an electron detection unit to detect the electronic signal and a control unit converting the electron signal to a clock signal to determine the relative position of the electron beam column and the designed pattern, so as to adjust the displacement of the stage. A nanometer scale positioning method for a precise stage is provided, which can resolved the problem of mechanical drift of the stage when the stage is multi-axis positioning or rotating.

備註

本部(發文號1100044063)同意貴中心110年2月23日國輻產字第1100000306號函申請終止維護專利。(國輻)

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