一種電漿產生裝置與其製備方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

104102202

專利證號

I 569690

專利獲證名稱

一種電漿產生裝置與其製備方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立臺灣大學

獲證日期

2017/02/01

技術說明

本發明提供一種電漿產生裝置的製備方法，其包含以下步驟：準備一絕緣基板，該絕緣基板具有一第一表面以及一第二表面；設置一圖形化電極於該第一表面上；以及設置一電極於該第二表面上，藉以形成一電漿產生裝置；其中，當該電漿產生裝置之該圖形化電極以及該電極通電時，於該絕緣基板上會產生一圖形化之電漿。相較於習知技術，本發明得以利用相對簡單的製程，無需使用精密設備或工具機來製備電漿產生裝置，具有製程簡易，降低成本之功效。 The present invention provides a plasma generating device comprising a high voltage driving device, an insulated substrate, and two electrode units. The present invention further provides a manufacturing method of a plasma generating device comprising the following steps of: (1) preparing an insulated substrate with a first surface and a second surface; (2) preparing two electrode units which respectively dispose one electrode unit on the first surface and the second surface, and (3) connecting the electrode with the high voltage driving device. Compared to the prior arts, the present invention provides a simpler process to manufacture the micro plasma generating device without using delicate facilities or machine tools. The present invention has advantages of lower cost and simpler manufacturing processes.

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

產學合作總中心

連絡電話

33669945

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