具單光柵波導之非對稱布拉格耦合聚合物過濾器的製造方法 | 專利查詢

具單光柵波導之非對稱布拉格耦合聚合物過濾器的製造方法


專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

100141174

專利證號

I 456276

專利獲證名稱

具單光柵波導之非對稱布拉格耦合聚合物過濾器的製造方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立虎尾科技大學

獲證日期

2014/10/11

技術說明

本發明係有關於一種具單光柵波導之非對稱布拉格耦合聚合物過濾器的製造方法。其於基板上覆設負光阻薄膜。對負光阻曝光成型波導圖樣以做為模子。此模子接著被用來產生一具有波導圖樣的矽膠圖章。然後此矽膠圖章再被用來將波導圖樣移轉到紫外光聚合物的包覆層。此包覆層被注入波導核心,並覆蓋上覆蓋層,最後完成具單光柵波導之非對稱布拉格耦合聚合物過濾器之製作。本專利所使用之技術包刮全像干涉技術,毛細效應技術,軟性微影技術及微翻模技術等。 而元件具有消除自身反射而保留交互反射信號之功能,大大提高元件在光通信及檢測上之用途,而使用之材料以成本較低之高分子材料,具有量產之潛力。 This invention announces a method of fabrication for an asymmetric Bragg coupler-based polymeric filter with a single-grating waveguide. A negative photo-resist film is coated on a substrate and formed asymmetric negative waveguide pattern as a mold. This mold is subsequently used to produce a polydimethylsiloxane (PDMS) stamp with waveguide pattern. This PDMS stamp is then used to transfer the waveguide pattern onto UV polymeric cladding layer. The cladding layer is injected with waveguide cores and covered with upper cladding layer, finally the fabrication of asymmetric Bragg coupler-based polymeric filter is completed. The fabrication process we developed was using holographic interference techniques, capillary effect, soft lithography, and micro molding process.

備註

本部(收文號1060069982)同意該校106年9月5日虎科大智財字第10634001500號函申請終止維護專利

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

智財技轉組

連絡電話

(05)6315933


版權所有 © 國家科學及技術委員會 National Science and Technology Council All Rights Reserved.
建議使用IE 11或以上版本瀏覽器,最佳瀏覽解析度為1024x768以上|政府網站資料開放宣告
主辦單位:國家科學及技術委員會 執行單位:台灣經濟研究院 網站維護:台灣經濟研究院