高垂直磁異向性之垂直磁性記錄媒體及提升其垂直磁異向性的方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

109101211

專利證號

I 719803

專利獲證名稱

高垂直磁異向性之垂直磁性記錄媒體及提升其垂直磁異向性的方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立中興大學

獲證日期

2021/02/21

技術說明

一種高垂直磁異向性之垂直磁性記錄媒體，包括一基板、一形成於該基板的上方的晶種層、一形成於該晶種層上的中間層、一形成於該中間層上且是由一混有AgC與FePt合金為主的複合磁性材料所製成的磁性記錄層，及一形成於該磁性記錄層上的非晶頂層。該非晶頂層是由一選自下列所構成之群組的化合物所製成：碳化硼、氮化硼、碳化矽、氧化矽，及碳氧化矽；其中，該非晶頂層具有一介於0.5 nm至3.0 nm間的厚度。本發明亦提供一種提升垂直磁異向性的方法。

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

技術授權中心

連絡電話

04-22851811

網址