抗輻射多層膜鏡片結構

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

097139615

專利證號

I 387778

專利獲證名稱

抗輻射多層膜鏡片結構

專利所屬機關 (申請機關)

國立中山大學

獲證日期

2013/03/01

技術說明

本發明主旨在於利用AZO(氧化鋅鋁)取代ITO(氧化銦錫)導電薄膜，鍍製抗輻射多層膜鏡片之技術，以電子束蒸鍍法鍍製，採用六層之光學堆疊設計，利用光學軟體決定各層的折射率與膜厚之關係。 現今鍍製光學膜工廠皆有多年的經驗及製程參數，若為了降低成本而冒然的改變材料，必須重新計算各膜層厚度與折射率之關係，也將嚴重影響製程參數設定以及品質；本發明架構採用六層光學堆疊設計，運用高折射率材料ZrO2、AZO與低折射率材料SiO2堆疊製做成寬廣區域抗反射膜，其中SiO2作為增加低反射區域之拓寬層，堆疊ZrO2可降低反射率；由於AZO與ITO具有相同之光電特性，且AZO之折射率與ZrO2相近，因此AZO與ZrO2堆疊在一起可視為同一膜層，一方面也具有導電特性。

備註

本部(收文號1040083830)同意該校104年12月24日中產營字第1041400470號函申請終止維護專利

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

產學營運及推廣教育處

連絡電話

(07)525-2000#2651

網址