METHOD FOR MANUFACTURING AN OXIDE THIN FILM

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

日本

專利申請案號

特願 2011-103033

專利證號

特許 5848887

專利獲證名稱

METHOD FOR MANUFACTURING AN OXIDE THIN FILM

專利所屬機關 (申請機關)

國立成功大學

獲證日期

2015/12/04

技術說明

氧化物薄膜已廣泛應用於傳統產業、半導體製程、光電產業等。目前氧化物薄膜的製備方法可概分為氣相法與溶液法。然而，氣相法例如蒸鍍或濺鍍製備方法需要使用昂貴的設備，真空系統抽真空的速度限制製程速度，且反應腔體的尺寸也使得製程難以大面積化。 溶液法例如凝膠或其他水溶液製備方法則有製程繁瑣費時與氧化物薄膜之特性不容易控制的問題。舉例來說，一種水溶液製備氧化鎢薄膜的方法係先將鎢粉與雙氧水攪拌6小時以均勻混合並移除過多的雙氧水，然後將醋酸加入溶液後迴流12小時，接著對溶液抽真空以移除溶劑，接著加入介面活性劑至溶液後攪拌約1小時，然後離心分離溶液中的雜質而留下澄清液體，接著將得到的澄清液體塗佈在基材上並進行加熱步驟以得到氧化鎢薄膜。此外，一般溶液法的製程步驟需要精確地控制才能具有再現性，否則，製程參數稍有誤差，例如溶液攪拌的時間不同或溶液置放的時間不同就無法得到相同性質的氧化物薄膜。 本發明之實施例提供一種氧化物薄膜的快速形成方法。方法包括以下步驟。製備塗料。塗料包括第一前驅物、燃料與溶劑。塗料最快約5分鐘即可製得。將塗料施加至基材上以形成塗層。進行退火步驟，以使塗層變成氧化物薄膜。在製備塗料的過程中或在退火步驟中，燃料會釋放熱能或氣體。 本發明之實施例也提供一種氧化物薄膜。氧化物薄膜係藉由上述方法形成。 An Oxide film and a fast method for manufacturing the same. The method includes following steps. A coating material including a first precursor, a fuel, and a solvent is prepared. The most short time for preparing the coating material is about 5 minutes. A coating layer is formed by applying the coating material onto a substrate. An oxide film is formed by annealing the coating layer. During preparing the coating material or annealing the coating layer, the fuel releases thermal energy or a gas.

備註

本部(收文號1080069828)同意該校108年10月22日成大技轉字第1085600263號函所報終止維護專利。

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