磁性薄膜之次微米磁滯迴路的量測方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

094111074

專利證號

I 259285

專利獲證名稱

磁性薄膜之次微米磁滯迴路的量測方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立雲林科技大學

獲證日期

2006/08/01

技術說明

本發明是有關於一種鐵磁材料之磁滯迴路(hysteresis loops)的量測方法，且特別是有關於 一種垂直異向性(perpendicular anisotropic)磁性薄膜之次微米級磁滯迴路的量測方法。

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

智財管理組

連絡電話

(05)5342601轉2521

網址